二手 Custom Sputter coater #9058402 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9058402
System
Small sample
Vacuum: 5x10-7torr with 1hr of sample load
Chamber:
Bottom plate: ISO 250 baseplate, (1) Onyx-2 magnetron, capable of (3) magnetron sources
Custom top flange and lid for substrate loading
(2) ISO 160 flanges
(6) KF40 flanges available as side ports
Pumping:
HVA gate valve separates chamber from turbo pump
Watts Pneumatics Regulator: Model #: R35-01C
Varian MacroTorr Turbo V550 turbo pump
Varian TurboP ump Controller: Model #: 9699544S016
Gas flow:
MKS Mass-Flo Controller
Model #:1179A22CR1BV
Range: 200 sccm
Gas: N2
Sputter source:
Angstrom Sciences Onyx-2 Magnetron Sputtering Cathode
Model #: Onyx-2 IC STD
Maximum Sputtering Power: DC: 1kW
RF: 600 Watts
Cathode Voltage: 100 - 1500 Volts
Discharge Current: 0.1 - 2 Amps
Operating Pressure: 0.5 - 50 mTorr
Cooling Requirements:
Flow Rate at Maximum Power: 0.05 LPS
Maximum Input Termperature: 20 deg C
Maximum Input Pressure, Open Drain: 4 bar
Target:
Form: Circular/Planar
Diameter: 50.8mm
Thickness: 0.3-9.6mm
Cooling: Indirect
Magnetic Enhancement: Permanent (NdFeB) Encapsulated
Construction:
Cathode Body: OFHC Copper
Anode: 304 Stainless Steel
Insulator: CTFE
Vacuum monitoring:
Granville-Phillips Micro-Ion ATM
Granville-Phillips 275 Mini-Convectron
Power supply: AE MDX, 2.5kW with arc handling circuitry, M/N: 2224-019-A
Interface: C-more EA7-T6CL-R touch panel, 6".
Custom Sputter coater是一种专门的溅射设备，用于将一层薄薄的材料沉积到基板上。这是一个沉积过程，来自金属靶标的原子或材料分子被加速以准直光束的形式撞击到目标基板上并形成薄膜。溅射系统一般由真空室、磁铁在基板周围产生场的布置、溅射源的布置、真空泵、电源和控制器组成。溅射单元是一种物理气相沉积（PVD）技术，其中来自目标的物质被惰性气体离子的轰击排出，产生中性原子的通量，在准直光束中传播到基质。溅射气体，包括氙气等，可用于产生高沉积速率和薄膜均匀涂层。定制溅射涂层由金、铬、钛、铜、铝等材料制成，每种材料都有不同应用的独特特性。用于溅射涂层的真空室通常为圆柱形室，配置为在目标基板周围产生均匀的磁场，从而产生高溅射速率。它配有用于连接基板支架、基板卡盘和目标支架的法兰。溅射涂层的工艺可以根据材料的不同而有所不同，但典型的工艺包括用氙气将腔室吹扫至所需的真空水平，装载基板和目标材料，将基板和目标材料加热到特定温度，然后为机器供电。Sputter涂层的电源通常采用DC-DC转换器的形式，可以提供多个输出电压为溅射源供电。目标材料通过阳极电路连接，其中电源连接到目标，接地通过金属棒连接。目标电源的馈通法兰位于发射室顶部。控制器将电源提供给溅射工具的各个组件,这些组件根据所需的参数进行调整。控制器还从溅射资产的各个部位收集数据，如温度、功率、电压等进行分析。定制溅射涂层可以沉积比蒸发等其他薄膜沉积技术更薄的材料层，因此非常适合需要精确层的应用。借助各种材料和精密的控制器，这些定制溅射涂层产生了高度均匀的层，具有极好的形态和再现。
还没有评论