二手 CVC 2800 #293750058 待售
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CVC 2800是为金属沉积而设计的高压溅射设备。这一系统使用高压惰性气体，例如氙气，形成等离子体。向要溅射的材料提供直流电压，溅射材料的原子以离子的形式向基板加速能量，导致材料的原子转移到基板上，从而形成薄膜。由于单元的高压，产生更多的高能离子，导致薄膜更致密。与其他系统相比,2800具有多项优势,包括提高了均匀性、提高了吞吐量、改进了可重复性以及对薄膜特性的更大控制。该机具有获得专利的工业等离子体发生器（IPG），提供全方位的等离子体参数，包括频率、脉冲宽度、脉冲高度、脉冲形状和气流控制。利用IPG，可以持续调整和控制工艺参数，使薄膜具有更好的均匀性。CVC 2800还具有先进的溅射室,以确保最佳的均匀性跨基板.该腔室利用聚丙烯窗口促进均匀通电的离子通量。该室还设有溅射沉积头、离子纱和准直器，以确保材料在基板上的高度精确和可重复沉积。此外，可振荡基板支架提高了刀具的精度，该支架设计用于在基板上施加均匀压力。2800是磁性、铁电和光学薄膜生产的理想选择。该资产的用途也很广泛,可以定制以满足特定的应用程序需求。此外，该模型还可用于湿的、干燥的和反应性的封装环境中，能够生产出高质量、高加工性能的薄膜。综上所述，CVC 2800是一款具有卓越均匀性和可重复性的高压溅射设备。该系统采用先进的溅射室、IPG和先进的基板支架，以确保薄膜的精确和一致的沉积。此外,2800用途广泛,可定制,非常适合各种薄膜生产应用。
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