二手 CVC 2800 #9054640 待售
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ID: 9054640
Cluster tool
Loadlock chamber: ion mill ~50A/min
Heater chamber: HAS, ~250ºC
Chamber 1, (3) targets:
Titanium
Ti-W: 10% wt Titanium to 90%wt Tungsten
Copper
RF Power supply: HAS 1
Chamber 2, (3) Targets:
Copper doped Aluminum, 5%wt
Tantalum
Tantalum
RF power supply: HAS 1
Process gas: (3) mass flow controllers: argon, nitrogen, oxygen
Includes:
(3) CTI 8 Cryo pumps and compressors
Mechanical vacuum pump: Alcatel M2033
Substrate handling options:
6" round substrate pallet capable of holding (8) substrates
8" round substrate pallet capable of holding (6) substrates
Customized 8" to 6" Adaptable Pallet for Edge Protection.
CVC 2800溅射设备是Cambridge Vacuum Coatings的一种最先进的、高性能的直列式沉积系统。该装置设计用于将各种材料沉积到许多基质上。它采用模块化设计方法,可根据流程集成和自动化的需要轻松定制。2800刀具的中央操纵机由两个溅射室和一个涂层室组成。每个溅射室都配有四个磁控管源和四个基板，以最大限度地提高沉积速率和吞吐量。涂层室装有热氧化室，以改善基板温度控制，优化薄膜生长。等离子体通过阴极源中的配对灯丝资产在溅射室中产生。这产生一个电子枪，将电子加速到阳极源，产生辉光放电。在涂层室中，高密度等离子体是通过遥控电压供应产生的，该电压供应在基质旁边留下一层热的电离分子。溅射材料然后凝结在基板上。CVC 2800溅射型号配备了几个特点，使其适合用于各种涂层应用。其中包括在手动腔室对腔室控制之上的易于使用的自动化层、基板和阴极源参数的自动控制、通用的测量套件以及可沉积的多种材料。此外，2800台设备能够在高真空和快速抽水速度下运行。所有这些特性使CVC 2800溅射系统成为实现高精度、重复性、高通量薄膜沉积的理想选择。这使得该单元成为医疗设备、传感器、显示器、光电子等多种多样工业沉积的首选。
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