二手 CVC 2800 #9185093 待售

CVC 2800是一种高度精密的溅射设备，用于将薄膜沉积在几乎任何材料的基板上，从半导体到光学材料。这主要用于纳米加工以及研发。系统的主要成分是溅射源，它使用气体作为电导体，用电子轰击目标材料。这种轰击导致目标物质汽化，然后汽化的颗粒在受控的大气中沉积到基板上。2800的来源由上半身和下半身两个独立的主体组成。上半身包含一个目标，下半身包含气体供应和电源调节器。根据所需的沉积类型选择目标材料。这通常是镁、钛、铬、铝等金属的组合。它还可以掺入铜、锌、金等其他金属。根据基材的不同，可以使用不同的靶材。例如，对于像半导体这样的导电基板，钛可以用作目标材料。CVC 2800与几种基板兼容，包括硅、玻璃和金属。该单元非常适合在单个基板上创建厚度不同的多层薄膜。这是由于机器的可变压力能力，从而可以更好地控制薄膜的沉积速率。该工具具有多种溅射技术，包括高速率和低速率沉积。该资产还具有内置压力表和可调节气体流量控制功能，以帮助保持溅射速率。此外,模型还可以选择在半连续模式或多步模式下操作。为了达到最佳水平,必须定期清洁和维护2800。这包括清理目标面，随着时间的推移，目标面会被沉积残留物堵塞。设备还需要定期校准，以确保沉积速率正确。总体而言，CVC 2800是一个强大而可靠的溅射系统，可以帮助在几乎任何基板上制造高质量的薄膜。该装置的可调参数可针对每一个单独的应用进行微调，其与各种基材的兼容性使得它成为任何研发实验室或纳米加工设施的绝佳选择。