二手 CVC 312415-27-T #9124390 待售

CVC 312415-27-T溅射设备是一种用于薄膜在基材上沉积的先进技术。它是一个闭合几何二极管溅射系统，由两个磁控管阴极、两个平行板目标和四个泵浦端口构成，实现单阴极和双极沉积。它配备了种类繁多的标准标准溅射靶子，可用于金属、合金、复合材料薄膜的沉积。312415-27-T由两个主腔室组成，一个电磁等离子体（EMP）腔室和一个主真空腔。EMP腔室容纳磁控管阴极，在真空环境中产生等离子体，并加速溅射粒子向目标材料。主室包含真空泵、目标和基板加热器。CVC 312415-27-T的一个主要特点是单阴极沉积（SCD）方法，它可以使薄层材料沉积在基材上而无需阴极旋转。与传统的双极沉积相比，薄膜具有更好的均匀性和稳定性。该单元还配备了多位置双极溅射控制器，用于多种材料的双极沉积，以及大型复杂薄膜的多目标溅射单元。312415-27-T机还配备了多种端效应器和检测器，如单轴溅射控制器、光栅扫描电极、离子和热辅助等离子体源、多区温度控制器、底压控制器。它还配备了一套质量控制的诊断工具，如四点探针单元、测量磁场的磁力计单元（MGU）和监测等离子体场的法拉第笼。CVC 312415-27-T溅射工具是生产高价值薄膜材料的有力可靠工具。它拥有一整套先进的工具、坚固的构造和直观的用户界面,使其成为涵盖航空航天、汽车和半导体制造等多个行业的广泛应用的理想选择。