二手 CVC 601 LL #135391 待售

CVC 601 LL是一种真空溅射设备，为各种薄膜沉积应用而建造。主要用于沉积金属、电介质和氮化物，以及氧化物和其他化合物。它具有从研发到中小型生产等复杂薄膜应用所必需的所有特性。601 LL采用高端金刚石类碳（DLC）涂层系统，具有先进的多源溅射和快速热退火。它具有分布式动力架构，具有先进的数字溅射电源，具有可调节的转向能力，可提供连续的等离子体浓度，同时允许精确控制材料成分。利用高效的低功率电弧抑制电路检测弧状条件并立即抑制。该单元的主室采用铝合金制成，即使在极端条件下也能方便操作。设有高真空室，可进行高质量的薄膜沉积和快速的泵降时间。在门上放置了一个集成编码器，用于精确控制氙气流动和关闭腔室。它还装有OLED显示屏，用于监控腔室状况并进行实时调整。CVC 601 LL具有独特的功能,例如先进的电弧检测机、峰值电流高达20A的可调功率范围,以及用于均匀分布涂层的自动基板支架位置控制。该工具为各种材料提供了广泛的加工窗口，从铝到金和其他异国情调的合金。601 LL具有横向气体输送资产，允许沉积高反应性物质，如氧化物和氮化物。它提供了一个大面积覆盖和均匀性控制模型，以生产高质量的薄膜与最小的浪费。此外,CVC 601 LL是一个可靠的设备,其后盾是一个创新的光学声学系统,能够以视觉和听觉的方式提供准确的过程控制条件,以及板载诊断和硬件数据记录器。它还具有增强的溅射清洗单元和无氢电阻涂层，性能卓越。