二手 CVC 601 #153595 待售

CVC 601是一种彻底改变先进材料合成的溅射设备。它是一个先进的物理平台，专为提供微米和亚微米薄膜沉积而设计，具有非凡的均匀性和最佳的层厚。该系统配有直流（DC）电源和真空处理室，以及其他组件。601设计为利用磁控管阴极技术进行溅射，利用高度精确的可调磁场创造稳定、高密度的等离子体源。这样可以精确控制薄膜的沉积速率和均匀均匀性。此外，CVC 601还结合了反射等离子体溅射过程，精确调节溅射过程的电离和沉积速率。这消除了手动控制的需要，并进一步增强薄膜沉积的均匀性。601溅射单元的其他关键部件包括用于精确压力控制的高性能泵送单元、先进的真空工艺室、无窗粘结基板。所有这些都包括它的真空室.该工具的压力控制机设有气闸，以有效处理基板的大容量载荷。为保证溅射过程的均匀电离，采用惰性气体喷射口进行精确的气体压力控制。CVC 601先进的无窗粘结基板配置有助于确保薄膜沉积的一致性。它还有助于降低由于严酷的热循环而导致基板破损的风险。此外，它允许根据所需的应用选择使用不同的材料，如：玻璃、不锈钢或介电基板。601能够将厚度为250纳米的薄膜沉积到基板上。此外,资产高度精确的过程控制允许针对各种应用控制和优化厚度,而无需手动调整。综上所述，设计了CVC 601溅射模型，以生产在精确厚度下均匀的高质量薄膜，提高了工艺效率和精度。其优越的技术和组件保证了可重现和可靠的沉积与最小的努力和停机时间。