二手 CVC 601 #293620652 待售
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ID: 293620652
Sputtering system
CTI Cryopump, 8"
Targets
Copper backing plates, 8"
Roughing pump
MDX Magnetron
Hydraulic hoist chambers
Manuals and spare parts included
Power supply: 220/240 VAC.
CVC 601是由高真空沉积专家CHA Industries生产的高端溅射设备。它是一种集成的、定制设计的设备,用于生产大型基板上的薄膜。它旨在提供卓越的均匀性和控制性,使使用者即使在大的、难以涂覆的基板上也能达到均匀的沉积。该系统包括三个主要组件:溅射源、基板支架和电源。该源设计用于在真空环境中产生离子,而底物则由配有一系列可调节特性的支架保持在位置。电源负责向溅射源和基板持有者的电极提供高压电流,导致从源释放的粒子电离,以及沉积过程中基板表面的粒子散射。溅射过程发生在一个孤立的真空室内,工作压力保持在环境水平以下。为保证颗粒与基板的有效相互作用,可以调整腔室压力、溅射沉积电流、电压、溅射持续时间等一系列参数。根据基板材料的不同,基板被放置在一个旋转的或平坦的支架上,这样沉积过程可以同时在最多六个不同的表面上进行。为了实时监控溅射沉积,该设备配备了集成显示器和温度控制器,允许操作员在必要时进行调整。此外,601还易于与其他系统集成,使操作员能够快速无缝地将组件添加到其现有生产线中。总体而言,CVC 601机是大型基板上溅射工艺的理想选择,保证了优质、均匀的涂层。沉积参数的详细控制,加上易于与其他设备集成的能力,使该工具成为任何生产线的宝贵补充。
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