二手 CVC 601 #83143 待售

CVC 601是一种高性能磁控管溅射设备，用于沉积金属和金属合金薄膜。该系统适用于反应式或非反应式溅射过程。它由两个目标组成，能够同时独立生产两种不同的材料。该设备具有PVD和PA6电源,能够沉积多组分薄膜结构以及单组分薄膜。601具有可移动基板级，可精确设置为所需的溅射角度。这种角度可以调整为最佳膜致密和成分控制.该机器有一系列目标载荷，能够生产不同厚度的薄膜。CVC 601配备了高功率、可调频率的RF/DC发电机和2 x 30厘米真空室。射频发电机的功率范围高达700瓦，总合功率为1400瓦。发电机还有场强度测量装置和功率控制工具，允许精确控制溅射速率。资产具有多种控制,包括射频偏差、功率、压力和温度。这些功能使用户能够精确监控和调制沉积过程。温度范围可在150-1000摄氏度之间进行调节,并提供温度倾斜选项。温度范围可以由CVC计算机模型的操作员快速设置和调整。601还有一个离子源，可以用于离子辅助溅射，导致薄膜质量提高。另外还有一个可选的气体喷射设备，可用于反应性溅射过程，以​​Argon或Oxygen作为反应性气体。CVC 601还具有串联粒子分析系统，可以精确监测薄膜成分。粒子分析单元能够检测0.3至9.9微米大小范围内的粒子。在安全方面，601配备了防止意外误操作的联锁安全系统。该机有CEC认可的安全开关，以及紧急停止按钮。还有一个防溅射装置，防止溅射时产生的粒子进入腔室。CVC 601是一种强大可靠的工具，可用于高效薄膜沉积。操作简单，能准确控制沉积过程，导致薄膜质量均匀。601具有柔韧性、安全性和易用性,是薄膜沉积的理想工具。