二手 CVC 601 #9003215 待售

CVC 601是一种先进的溅射设备，设计用于将金属、合金、半导体和绝缘体的薄膜沉积在基板上，如薄玻璃或塑料。它是一种工业级溅射系统，设计时考虑到最大的生产效率。601由一个最多可容纳八个目标和两个基板支架的腔室组成。目标可以很容易地改变以达到正离子或负离子静态溅射。高抽水速度提供了室内的高真空环境，使溅射沉积发生。CVC 601利用磁控管型射频或直流电源,具体取决于目标材料。射频电源以175 kHz的频率运行，而直流电源使用三相电源。采用了一种艰苦的点火方法来调节601的薄膜沉积性能。内置的基于内容的控制单元优化了各种沉积条件下的工艺参数。可使用水冷冷却剂或风冷冷却剂控制腔室的温度。此外,还可以使用内置传感器对腔室进行温度、压力和气流监测。CVC 601提供手动和自动控制操作来设置沉积参数。利用这种自动化和手动控制的组合,可以为满足特定客户要求的薄膜沉积量身定制601。进程参数可以存储在可编程内存中，并在需要时进行访问，除非手动更改。CVC 601设计用于半导体制造厂或用于研究和实验室研究。凭借先进的控制机器和较高的泵送速度，601可以生产出一致、高质量的薄膜，用于各种应用。