二手 CVC 601 #9060536 待售

CVC 601是一种最先进的直流电（DC）磁控管溅射设备。该系统是为微电子和光电器件制造的基础和应用研究而设计的.它提供了对各种操作参数的精确控制，以在各种溅射技术中生产高质量的薄膜。601具有模块化设计,允许各种配置选项来满足研究和工业需求。它是一种真正的直流溅射装置，用于氧化、氮化等薄膜应用。6"目标机利用先进的失衡磁控管溅射源，可以进行优化，提供长寿命、高速率沉积和可重现的结果。高功率射频调谐装置的设计保证了可靠和可重复的过程控制。CVC 601包括电源部分设备、加热器、快门工具和带有涡轮分子泵的真空资产。该模型配置用于控制腔室压力、基压和操作压力，使基板的制备达到所需的最佳压力值。高精度Pt1000电阻温度计的先进PID控制设备实现了操作温度的精确控制。601系统的软件包允许对目标位置、基板位置和RF电源设置进行精确的微米级控制。机载机械臂可自动放置和检索基板,以便进行批处理。其他功能还包括自动化的过程控制单元、光学反馈单元、过程监控模块以及用于确保操作员安全的安全联锁机。此外，CVC 601还可定制一种可选的快速断开气体分配工具，用于用不同气体排出和回填腔室。601是材料研究、薄膜沉积、表面表征的理想工具。适用于太阳能电池、平板显示器、CMOS成像设备、硬质涂层、MEMS设备等多种应用。对流程参数的精确控制、广泛的高级功能和通用软件相结合，提供了卓越的用户体验。