二手 CVC 601 #9123996 待售

CVC 601是一种用于薄膜沉积的溅射设备。它是一种单室双磁控管系统，旨在提高薄膜沉积工艺的效率和灵活性。该机组采用内置嵌入式电源的单个高真空室和用于双磁控管溅射的射频发生器。它有一个矩形的敞开式腔室、一个用于溅射材料的集成通风口、腔室顶部和底部的气体进气口以及基板的垂直设置台。为了沉积薄膜，样品被装入室内，并建立真空。然后将氙气引入腔室，由两台低频（13.56 MHz）射频发电机将磁控管溅射。磁控管的功率和频率都可以调节以获得最佳涂层。基板放置在与磁控管目标设定在所需距离的平台上。将射频功率提高到所需值,并在需要沉积涂层时将溅射材料收集到基板上。601溅射机效率高，可用于多种薄膜沉积工艺。它具有较高的沉积速率和较低的底物充电水平，非常适合在各种底物上沉积高质量的薄膜。大的腔室尺寸允许多个基板被溅射，或者更大的基板可以用于更大的涂层。该工具还支持高沉积速率，具有大范围的磁控管功率输出以及在高温和低温下沉积的能力。此外，资产还具有共沉积和反应性溅射等先进工艺。总体而言，CVC 601模型是各种薄膜沉积应用的强大而有效的工具。它是一种高效灵活的工具，可以将优质涂层沉积在多种材料上。