二手 CVC 611 #9077095 待售

CVC 611是一种真空溅射设备，用于在大面积上沉积和溅射高质量和均匀的薄膜。该系统由真空室、溅射枪、压力控制器和控制单元组成。真空室由丙烯酸体和不锈钢底座组成，并配有与腔室内部视觉交互的观景口。它能够为金、铝、铬、钛等材料创造与发动机运行相对应的合适背景压力。腔室内部容积较大，能够快速疏散和快速溅射沉积。用于沉积薄膜的溅射枪具有可调频率和功率水平。利用水冷线性电离光源，使薄膜层具有高速率、均匀的沉积特性。可调整源，以最佳的沉积精度实现长载荷周期。该枪处理几种基材，包括玻璃、石英或硅片。压力控制器负责在沉积过程中提供必要的环境。它通过保持真空和温度来创造最佳的工作条件。这使得溅射速率恒定，从而保持膜的质量和均匀性。611使用的控制机为Open-PACE。它是一个提供众多控制和操作选项的图形用户界面。该工具有助于确保精确和一致的操作,从而使用户能够更好地控制沉积速率、薄膜厚度、纹理和均匀性。总体而言，CVC 611是一种先进的溅射资产，能够在大面积上以更高的精度和均匀性沉积薄膜。通过压力控制器提供必要的环境，并通过用户界面提供必要的控制，611为任何需要质量膜层的项目提供了最佳沉积工具。