二手 CVC CVC 2 #9124375 待售

CVC CVC2是一种用于将材料薄膜沉积到基板上的溅射设备。它是溅射系统的三源聚类，意味着它有三个独立的沉积源。它具有广泛的功能,可用于许多不同的应用程序。该单元由一个主体和最多三个额外的沉积源组成。每个源通过一个柔性臂连接到主体。这使得在将材料沉积到基板上时具有灵活性。主体装有一个控制器单元，可以精确控制沉积参数。控制器是可编程的，允许用户根据自己的需要定制沉积。在将材料沉积到基板上之前，必须循环使用真空室，以确保适当的沉积环境。腔室可以通过抽水和加热相结合的方式循环，这取决于用户的真空要求。三种沉积源分别是磁控管、电弧和电子束。磁控管源利用螺线管磁体和溅射目标使气体分子电离，并将材料薄膜沉积到基板上。电弧源利用感应线圈和电子射线照相源对材料进行电离和溅射。电子束源利用电子枪溅射材料，在基板上形成薄膜。除了源外，CVC 2机还配备了其他几个部件，以保证平稳运行。这些部件包括一个负载锁、一个卡盘、一个样品支架、一个真空阀、一个用于监测过程的观察端口、一个疏散泵、一个气体喷射器和一个冷水器。CVC CVC2工具具有很高的适应性，可用于各种基于真空的应用。例如，它可以用于电接触应用，如薄膜电阻。此外，该资产还可用于将材料沉积到硅晶片上，用于制造MEMS和IC，以及用于光学用硫化锌和氮化硅的薄膜溅射。总之，CVC2是一种可靠的三源簇溅射模型，能够将多种材料沉积到基质上。它具有很高的适应性，可用于各种应用。它具有多种沉积源和各种其他成分，是最有效、最可靠的材料溅射系统之一。