二手 CVC ICS 660 #135722 待售

CVC ICS 660是一种直流（DC）磁控管溅射设备，用于将各种涂层的薄膜沉积在基板上。这种溅射系统结合了高性能的溅射枪，以及独特的枪架组合，被设计成在高功率应用中提供卓越的基板覆盖和无与伦比的寿命。该单元由可调节电压和电流设置的直流电源供电，每支枪可单独调节。ICS 660具有多种磁体，包括矩形和圆形磁体，可以对溅射过程进行微调。该机基于旋转磁控管溅射（RMS）过程，其中在基板和旋转源磁铁之间的旋转平台上安装了大功率磁控管枪。这种溅射工具使材料均匀分布在基板上，与传统的平面溅射系统相比有几个优点。最重要的是，资产的旋转方面允许薄层在整个基板表面上均匀沉积。这种均匀的沉积过程消除了在靠近基板边缘的盲点中的沉积，从而可以产生不均匀的层厚度。CVC ICS 660还包括多种高级功能。旋转炮架能够精确调整溅射角度，以确保最佳覆盖基板。此外，可调节压力表允许用户根据个别应用要求重新调整压力。该型号还配备了智能传感器，可以检测溅射枪何时即将失去目标材料，并自动调整工艺参数，以保持轻松一致的沉积速率。ICS 660溅射设备为各种工业应用生产高质量的薄膜，从微电子到航空航天应用。利用直流电源和RMS工艺,CVC ICS 660可在几乎任何尺寸或形状的基板上均匀沉积金属、金属氧化物和其他薄膜材料。其先进的功能确保了高度的准确性和可靠性，同时为用户提供了微调沉积过程以满足其特定要求的能力。