二手 CVC PSE43 #70877 待售

CVC PSE43是一种用于将材料低压真空沉积到基板上的溅射设备。它专为薄膜沉积和半导体涂层等应用而设计，注重效率、速度和易用性。PSE43是一个三站直接溅射过程系统，它提供了更大的控制和优化过程。该单元有一个大的等离子体大气室，从该室可以将多种阴极材料沉积到基板上。基板放在环形样品架上，插入沉积室中，样品架在腔内旋转，以确保沉积物料均匀涂层均匀分布。机器配备了数字反馈工具，确保在溅射过程进行过程中资产保持稳定状态。该模型提供了对电流、压力、等离子体和温度设置的微调，以提供最佳性能。设备中使用的气源包括的Argon、Oxygen、Nitrogen和Hydrogen，具有广泛的兼容合金-目标材料选择。CVC PSE43设计具有坚固而可靠的结构，能够应对沉积过程中呈现的各种环境条件。如果操作参数超出正常范围，系统将设计各种安全措施，例如警报。PSE43易于使用,并提供了一系列有用的功能和报告。它采用了方便用户的图形界面，便于在沉积过程中监测工艺参数。此外，界面提供了一系列有用的报告，如周期摘要和趋势图，以及对过程的实时分析。总体而言，CVC PSE43是一种高效、可靠、用户友好的溅射装置，适用于各种薄膜沉积和半导体应用。该机器提供可靠、坚固的结构和一系列功能,使其成为那些需要经济高效且可靠的工具的人的理想选择。