二手 DENTON VACUUM DESK II #9114743 待售

DENTON VACUUM DESK II是为真空沉积和薄膜涂层领域研发而设计的下一代溅射设备。该系统非常适合沉积高导电和介电薄膜，如氧化物、氮化物、碳化物和合金，精度和可靠性。该装置配备了定制的多室配置，包括涡轮分子泵、初级真空室、加工室、电子炮室和过滤室。这台机器是为方便样品装卸而设计的。它还由一个先进的闭环过程控制器组成，能够实现顺序膜溅射应用的完全自动化。该工具具有高速溅射沉积能力，在42英寸宽的大面积上具有极好的均匀性。它还具有高度的多功能性,能够将各种元素和复合目标的材料与各种基板安装构型相结合。该工艺控制器还具有五十个可编程的配方存储器，这样就可以存储多达五十个预定配方以供将来使用。通过直观的图形用户界面可以方便地修改工艺参数，其中包括各种各样的输入/输出选项和多达六个工艺参数，包括压力、温度、基板偏置、目标偏置、沉积速率和薄膜厚度。用户友好型设计包括预编程参数和用户定义参数。该资产还具有八个直接加热器，用于基板和目标温度均匀性和低放气率，以及两个用于广泛工艺控制优化的射频基板偏置源。先进的RPM控制使用户能够优化用于薄膜和厚沉积物的参数。该模型通过光学发射光谱提供了先进的光学监测，使用户能够彻底分析薄膜沉积速率并相应调整参数。此外,远程服务端口还提供数据库查询、流程诊断和调整的完全远程访问。这样可以减少与现场服务呼叫相关的时间和成本,从而确保流程的持续效率。总之，DESK II是一种先进的溅射设备，它以直观的图形用户界面和可靠的闭环过程控制提供卓越的薄膜均匀性和准确性。其多室配置实现了广泛的工艺优化，其先进的光学监测进一步确保了有效的溅射沉积。该系统非常适合要求操作精确、可靠、拥有成本低的研发。