二手 DENTON VACUUM DESK II #9180250 待售

DENTON VACUUM DESK II是一种溅射设备，设计用于沉积抗高能离子、蚀刻剂和电流的薄膜。该系统采用目标直径为70mm的高性能溅射炮，在一系列基板上提供均匀、快速的涂层。此外,该单元还具有创新的一代功能,例如用于端点检测控制的现场测量。Vacuum DESK II采用了一种精密的大功率直流溅射枪，具有初级磁性屏蔽，能够在低工作压力下沉积。这台机器采用了可编程电源,实现了可重现的涂层工艺.此外，该枪还具有热控冷却工具，保持沉积均匀和快速。Vacuum DENTON VACUUM DESK II还包括喷枪上的离子束场以及远程等离子体活化，从而提高离子溅射速率，允许以更高的沉积速率均匀沉积。Vacuum DESK II的基板支架是一种两区隔热资产，具有先进的热保护模型，允许基板加热到300 °C。该设备还具有1至10毫巴的可变压力范围。它设计有一个独特的中央真空端口，用于精确的负载锁疏散和一个高温屏蔽，以防止被溅射枪污染和防止薄膜变质。Vacuum DENTON VACUUM DESK II包括一个基于PLC的MFC（多功能控制器）和一个允许简化操作的图形用户界面。系统还有一个自动诊断单元，用于监视、控制和注册机器的状态。此外，Vacuum DESK II具有超过15种实时自动化算法来优化沉积过程。Vacuum DENTON VACUUM DESK II除了具有先进的功能外,还采用露天淋浴设计,便于检修部件和溅射枪。此工具还具有高速自动门资产,可减少与样品交换相关的停机时间。此外，Vacuum DESK II配备了安全互锁模型，旨在保护用户。总体而言，DENTON VACUUM DESK II是一种先进的溅射设备，适用于广泛的工业规模应用。凭借其集成的溅射枪和端点测量系统，该单元可以在广泛的基板上提供高效、均匀的沉积。此外，该机的高科技特性，如基于PLC的图形用户界面MFC，为可靠准确的沉积提供了更多的信心。