二手 DENTON VACUUM DESK II #9191201 待售

DENTON VACUUM DESK II是为真空技术应用而设计的溅射设备。它允许精确控制诸如电压、电流和压力等溅射参数。该系统使用先进的控制算法来精确控制溅射过程，并能够快速响应基板温度的变化。它还具有集成的真空泵和压力监控器，以及用于替代供气的气体入口阀。溅射过程依靠磁控管在钨和石墨等两个电极之间产生等离子体。这是在真空中完成的，然后根据所需的效果将其填充到氙气或其他气体中。然后将溅射目标涂上一层薄薄的材料，这些材料来自位于其上方电极上的阴极。DESK II通过控制设备的电压、电流和压力,实现对溅射过程的精确控制。DENTON VACUUM DESK II配有电源和控制机器的电子设备。电压、电流和压力参数都通过嵌入在工具中的高级控制算法进行精确监控。此外，该资产还配备了集成真空泵、压力监测仪和供气备用的气体入口阀。这确保了不同类型气体的可用性，以适应特定溅射过程的要求。该模型还提供了强大的多步控制,能够调整压力、电压和电流的步长值。这样可以确保通过溅射过程达到所需的精度水平。DESK II提供了无与伦比的精确度,使其成为工业用户中的首选。此外，它的设计考虑了用户，提供了一个高度直观的软件界面，以便于设备的控制。最后，DENTON VACUUM DESK II是一个高度先进的溅射系统，设计用于精确控制过程中涉及的参数。它配备了一个集成的真空泵和压力监测器，允许交替供气，使其适合各种应用。先进的控制算法确保了对参数的精确控制，而直观的软件界面使设备易于控制。总体而言，DESK II是那些寻求可靠、精确和用户友好的溅射机的人的理想选择。