二手 DENTON VACUUM DESK II #9199103 待售

DENTON VACUUM DESK II（DV2）是一种用于实验室或工业环境的溅射设备。它设计用于在真空环境中将薄膜材料快速沉积到基板上。该系统是一种双磁控管装置，可以在单个过程中将多种材料沉积到单个基板上。该DV2能够在一定温度范围内提供极其均匀的薄膜沉积速率，并具有可重复的结果。该单元由110伏电源供电，使用变频驱动器调制从电源到磁控管的功率输出。这可以精确控制沉积膜的沉积速率和由此产生的厚度。该机器能够提供高达760 torr的真空压力，这是许多物理气相沉积过程所必需的。该DV2包括两个单独或组合存放材料的沉积来源。这两个源可以用2.5米的可调距离隔开，并可以输送高达25纳米/分钟的沉积速率。该DV2对平面和圆柱形基板都有可变基板支撑。基板表面的温度由温度控制模块控制，可以从低至-60°C调整到高达500 °C。DV2在工具的下部包括一个完全可进入的炉膛。该腔室达到高达1000 °C的温度，用于将真空腔室加热到更高的温度进行退火过程。资产的上部包括一个疏散室，可通过门口进入。这扇门允许安装离子源，可以用来将金属、氧化物和其他材料溅射到基板上。在安全性方面，DV2型号包括一个保护门，以减少暴露于腔室极端温度的风险。此外，离子源还配备了辐射屏蔽功能，以防止意外暴露于电离辐射。总体而言,DESK II是为实验室或工业环境设计的强大的溅射设备。它能够以极均匀的沉积速率将多种材料沉积到单个基板上。该系统配备了确保安全使用和可靠结果的功能。