二手 DENTON VACUUM DESK II #9213639 待售

DENTON VACUUM DESK II是一种溅射设备，用于将材料薄膜沉积到基板上。它由真空室、电源、气体和泵送系统以及沉积源组成。溅射过程在由不锈钢制成的真空室内进行，并采用环境密封。这个腔室是专门为创造高真空环境而设计的，允许溅射物种在非常低的压力下有效地运输到基质上。该单元的电源由一个标准工作范围为0至1,000瓦的直流磁控管溅射源组成。磁控管源负责提供启动和维持溅射过程所需的能量。它由各种真空屏蔽电缆和其他保护组件保护。它还提供手动和自动电流控制，以方便薄膜的精确沉积。气体和抽油机用于在沉积室中产生和维持规定的气体成分和压力。抽水工具由涡轮分子泵、高速旋转泵、单色离子泵和惰性气体资产组成。该模型设计为提供真空环境，最小压力为10-5 torr。气体入口是可调的，以确保金属或合金膜可以得到不同的气体成分。沉积源是石英构造的，用于提供有效的溅射物种在基质表面的沉积。它能够处理各种尺寸可达6英寸的基板，而最小程度地暴露于背景大气中。磁铁阵列用于控制溅射物种的方向和强度，以确保薄膜以均匀的厚度和精确的分布放置。DESK II是一种高效的溅射设备，非常适合金属和合金薄膜在各种基板上的精确沉积。它提供了一个具有可调压力和气体组成的高真空环境，确保薄膜的精确沉积达到精确的要求。该系统还配备了一个监控单元，能够随时跟踪和控制工艺参数，以确保所得薄膜的质量和性能。