二手 DENTON VACUUM DESK II #9224511 待售

DENTON VACUUM DESK II（VD2）是一种自动真空室溅射沉积设备，设计用于复杂的薄膜沉积在各种基板上。该系统是实现应用特定涂层工艺的重要工具，是精密薄膜沉积工作的理想之选，具有无与伦比的精度和可重复性。该VD2由三个主要模块构成：控制站、源室和工艺室。这些模块中的每一个都考虑到了用户的安全性和易用性。控制站允许会话设置、图形作业映射以及监视正在进行的沉积的功能。这个工作站利用了一个易于操作的触摸屏界面，允许用户以最少的训练操作单元。源室包含两个通过真空进料通路连接的圆柱形腔室；一个腔室装有惰性气体源，如的，而另一个腔室则用于基板加热。一个可旋转的基板支架用于通过真空进气室运输单个样品。该工艺室由一个圆柱形的腔室组成，其中包含两个独立控制的静电炮源、两个磁铁和一个单一的射频溅射源。这些组件的设计最大程度地提高薄层的均匀性组成薄膜沉积在基板上。该工艺室还包括一个冷却的基板支架以维持工艺温度，以及一个用于实时监测机器压力的石英晶体压力表，允许用户为工具的正确操作进行必要的调整。该VD2使用户能够生成功能小至0.1 μ m的高质量薄膜。这种多功能性使得它适用于一系列的应用，从设备制造和纳米级模式到医学诊断和计量。该资产还配备了多种源气体，使其适合一系列材料，如金属、半导体、聚合物、氧化物和氮化物。该VD2还提供了高度可重复的沉积工艺的优势，可在大型基材和应用中保持工艺质量和可重复性。这确保了可靠、一致的最终产品质量,对于精确的薄膜沉积任务至关重要。该VD2是一个先进的，用户友好的溅射模型，可以很容易地集成到任何原型或研究实验室。凭借其先进的设计和广泛的选择，这种真空沉积设备在薄膜沉积技术上提供了卓越的精度和可重复性。