二手 DENTON VACUUM DESK IV #9190284 待售

DENTON VACUUM DESK IV是设计用于超高真空应用的增强型溅射设备。这个功能强大的系统结合了桌面尺寸单元的便利性和全尺寸溅射沉积的能力。Vacuum DENTON VACUUM DESK IV具有原子光滑的表面光洁度,其独特的沉积能力使它成为许多应用程序的宝贵工具。Vacuum DESK IV机器装有溅射源和目标以及控制组件。使用以太网接口,用户可以控制任何计算机的溅射过程。该工具设计为任何应用程序的快速、简单和可靠的溅射解决方桉。Vacuum DESK IV资产的核心是其溅射源。该源是一种拉杆式机构，可确保在基板上精确控制和均匀沉积薄膜。Vacuum DENTON VACUUM DESK IV提供精选的贵金属溅射目标，包括不限于金、钯和铝。除了溅射源之外，Vacuum DENTON VACUUM DESK IV还包括一块被称为通道阵列的仪器。该阵列是一组数控开关和电位计，允许用户精确控制薄膜沉积速率。这种控制对保持沉积膜的均匀性和质量至关重要。Vacuum DESK IV还包括一个可逆旋转真空泵。这种强大的模型能够在几分钟内达到所需的真空水平。如果真空降至设定点以下,设备将自动关闭,防止目标材料或基板受到任何损坏。总之，DESK IV是为超高真空应用而设计的功能强大、可靠的溅射系统。利用其数字控制单元、可逆旋转真空泵和贵金属溅射靶子的选择，是保持大型基板均匀可靠的薄膜沉积的理想选择。由于节省了空间,用户可以根据自己的特定需要方便地配置机器,使Vacuum DENTON VACUUM DESK IV成为需要精确沉积的行业的宝贵工具。