二手 DENTON VACUUM Desktop II #9249737 待售

DENTON VACUUM Desktop II是为精密薄膜沉积而设计的先进溅射设备。该系统非常适合研发,采用紧凑的设计,并通过双基板支架最大限度地提高吞吐量,从而实现并行基板处理。该机组拥有一系列令人印象深刻的特点，包括高真空泵送能力、超宽节气门机、变频电源和集成质量流量控制器。Desktop II旨在提供复杂薄膜沉积应用所必需的高性能溅射解决方桉。该工具能够达到<1x10-4 Pa的极限压力水平，得益于包含了400升/分钟的涡轮分子泵和大型水冷前线陷阱。超宽节流阀资产进一步有助于创建高度控制的溅射室，并使用户能够实现精确的溅射沉积速率。该模型还包括一个能够进行双离子轰击的大功率溅射源。这提供了增强的薄膜结构均匀性和改进的薄膜附着力。变频电源可以同时支持射频和直流溅射应用，而集成的质量流控制器使用户能够精确控制用于PVD和ALD过程的反应性气体的流量。该设备还配备了先进的数字控制系统，该系统连接到提供的PC，用于数据监控。该单元还允许用户创建和存储可重复性和提高机器性能的配方。该工具符合业界最严格的安全标准,旨在以最低的维护要求运行,以优化正常运行时间。总之，DENTON VACUUM Desktop II是精确度和吞吐量最高的薄膜沉积应用的终极解决方桉。其强大的溅射源和丰富的特性设计使其成为微电子和光电工业研发应用的理想选择。