二手 DENTON VACUUM Discovery. #293797109 待售

ID: 293797109
晶圆大小: 6"-8"
优质的: 2007
Deposition system, 6"-8" Vacuum load lock Robot loading assembly VEECO Ion source, 5 cm Gas controller Cables High steel chamber: 2" x 2" x 3" (2) VAT Gate valves (2) RF Tuners (2) ANGSTROM SCIENCES RF Cathodes with power supplies / controllers (2) ADVANCED ENERGY / DRESSLER Cesar RF Power generators CTI CRYOGENICS Cryo-Torr 8 Cryogenic pump with monitor CTI CRYOGENICS 8200 Compressor KYKY Turbo pump TRP-90 Vacuum pump Pressure monitor 1200H Controller Isolation valve Power supply PC 2007 vintage.
DENTON VACUUM Reliant 2是一种先进的溅射设备,设计用于半导体、光学和研究应用中的薄膜沉积过程。这一尖端系统提供卓越的性能、灵活性和可靠性,以生产高品质的薄膜具有卓越的均匀性和精确度。Reliant 2配备了最先进的磁控管溅射技术,可以将薄膜高效、精确地沉积到各种基材上。该单元采用双磁控管结构,可同时溅射多种材料,以形成多层沉积或合金。双磁控管设计增强了机器的多功能性,使用户能够创造出具有独特特性的复杂薄膜结构。DENTON VACUUM RELIANT 2中的溅射过程是在高真空环境中进行的,确保了清洁无污染的沉积过程。该工具配备了坚固的真空泵资产,能够实现并保持超高真空水平,对于实现高品质的薄膜涂层具有出色的附着力和均匀性至关重要。真空模型还通过最小化气相相互作用和确保稳定的工艺条件,促进了溅射工艺的整体效率。Reliant 2具有先进的控制和监控功能,允许用户精确调整和优化沉积速率、目标功率、气体流量和基板温度等沉积参数。设备配备了方便用户的界面,提供实时流程监控和数据记录功能,使用户能够跟踪和分析流程参数,以便进行流程优化和质量控制。DENTON VACUUM RELIANT 2的关键优点之一是它能够容纳广泛的目标材料,包括金属、氧化物、氮化物等等。该系统提供轻松的目标更改功能,使用户能够快速高效地在不同的目标材料之间进行切换。这种灵活性使得Reliant 2非常适合需要多种材料和薄膜结构沉积的研发应用。除了先进的溅射功能外,DENTON VACUUM Reliant 2还提供了一系列可选功能和升级,以满足特定的应用要求。其中包括改善膜粘附和控制膜形态的基板加热能力,以及实时表征膜性能的现场监测工具。该单元还可以与自动化和软件控制系统集成在一起,以提高生产率和易于操作。总体而言,Reliant 2是一款先进的溅射机,它将尖端技术与用户友好的操作相结合,提供高性能的薄膜沉积功能。无论是半导体器件制造、光学涂层应用,还是研发项目,DENTON VACUUM Reliant 2都提供了一个可靠、通用的解决方桉,以实现质量和性能卓越的精确、均匀的薄膜涂层。
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