二手 EMITECH / EDWARDS K575X #293608604 待售

EMITECH/EDWARDS K575X是一种用于薄膜沉积在基板上的溅射设备。它由四个主要组件组成：高性能电源、离子源、离子光学器件和真空室。电源提供必要的电压，高达5千伏，以产生含有离子和电子的等离子体羽流。离子源是同轴辉光放电电极阵列，提供低压、小放电的均匀等离子体场。离子光学器件由内部和外部网格组成，用于过滤离子并确保均匀的离子轰击底物。真空室是密封的，设计用于维持所需的气氛，并在沉积过程中包含所有溅射物质。EMITECH K575X系统能够沉积多种材料，包括金属、氧化物、氮化物和合金。金属膜可以高沉积速率沉积，快速、经济地沉积薄膜层。溅射材料高度均匀，不含针孔、漂移或裂纹。氧化物、氮化物和合金可以以较低的速率沉积，但均匀性增加。该腔室旨在保持最佳沉积条件，包括压力、工艺气体、目标间隙和基板温度。腔室能够受到污染，需要定期清洗，以确保所需材料的最佳沉积。该设备可以通过SEMI-standard工艺实现自动化,从而能够轻松集成到现有生产线中。各种配件，如迷你腔室、基板支架和工艺模块，都可用于特定工艺。EDWARDS K575X是制造大面积基板、细粒多层薄膜和精密涂层的理想机器，可用于各种工业和研究应用。该工具还能够生成高度可靠的数据，包括厚度、均匀性和其他参数，以便对沉积过程进行最佳控制。