二手 EMITECH / EDWARDS K575X #293608605 待售

EMITECH/EDWARDS K575X是一种高端溅射系统，用于沉积金属、合金和氧化物等材料的薄膜，用于各种研究和工业应用。该系统由射频电源、磁控管电源、真空室和工艺气体调节器组成。射频电源为固态、高功率电源，频率为13.56 MHz，最大输出功率为35千瓦。这样可以在大面积上精确控制厚度和规定的涂层参数。磁控管源利用永磁控制等离子体形状，并具有可调节的电源和调谐控制，用于控制等离子体参数。这样可以在大面积上实现目标材料的均匀沉积。真空室由不锈钢构成，容量2立方米，底压小于5x10-5毫巴。它与几种类型的基板兼容，包括扁平或圆柱形基板，基板尺寸直径可达200毫米。它还包括气体入口和废气，允许在溅射过程中添加反应性气体，以改善膜的性能。过程气体调节器允许调整过程气体压力，使用直列表可以快速监测。这允许精确控制获得所需薄膜特性所需的工艺参数。此外,它还具有双区域功能,允许将不同的参数应用于同一运行中的不同基板区域。EMITECH K575X是功能强大且用途广泛的溅射系统,具有许多功能,可实现高效、精确的溅射过程。适用于研究和工业应用，如半导体和光电器件薄膜的沉积。