二手 EMITECH / EDWARDS K750 #293637250 待售

EMITECH/EDWARDS K750是一种用于在基板上沉积薄膜的溅射设备。它是一个多合一系统，包括一个等离子体源，用于控制沉积速率的组件，以及用于产生真空的压力控制单元。内部组件由数字显示器控制，并由PLC（可编程逻辑控制器）供电。EMITECH K750利用直流电力，由一个腔室和三个主要组成部分组成：靶子、基体和电离区。目标由溅射材料组成，安装在带有磁场的腔壁上。基板支架用于定位和支撑基板。电离区包含几个高活性离子，这些离子是由室内的磁控管产生的。腔室还配备了几个真空泵和阀门，用于控制腔室内的压力。直流电源用于从目标表面溅射目标材料。在直流磁控管溅射中，目标材料被磁控管产生的离子轰击。当离子撞击目标时,它会释放沉积在基材上的物质.通过控制磁控管的功率水平，可以调节溅射材料释放的速率。EDWARDS K750设计用于洁净室环境，易于集成到自动沉积系统中。它还具有用于精确温度控制的热电偶机.这意味着可以在各种应用中创建可重复和可靠的薄膜。综上所述，K750是一种用于在基板上沉积薄膜的溅射工具。它具有一个直流电源、靶子、基体和电离区，用于为沉积过程产生离子。它设计用于洁净室环境，易于集成到自动沉积系统中。此外，它具有精确的温度控制和可重复和可靠的薄膜可以创建在各种应用。