二手 EMITECH / EMCORE K575X #9250890 待售

EMITECH/EMCORE K575X溅射设备是一种多用途、多目标的批量生产工具,具有独特的溅射沉积技术。它是为半导体工业中的屏障/粘合层和金属层等沉积应用而设计的。其设计具有良好的工艺控制、最小的维护和高纯度沉积，具有灵活性和高生产率。该系统利用EMCORE专利磁控管溅射沉积工艺，在多种基质上形成受控的均匀沉积。这一技术提供了均匀的沉积速率、方向性和较低的电子辐射，从而提高了均匀性。此外，磁控管的使用降低了材料成本，因为溅射目标保持静止，绝不需要更换。EMCORE K575X单元由一个五目标直驱溅射阴极构成，每个阴极最多可装载四个溅射目标。这种直接驱动机器允许高沉积速率，同时提供统一的覆盖范围。它还提供了广泛的处理时间和灵活的配方,以满足生产工作负载的需求。EMITECH K575X利用精密运动控制器和自动化工具来控制溅射阴极的运动。这样可以精确控制层的组成和厚度,并能够对复杂层进行编程以实现最大的工艺效率。该资产还拥有两个独立的离子源，具有一定范围的光束能量、电流和光束几何形状，以最大限度地提高沉积质量。溅射室设有集成的高速加工、基板背面冷却以及旋转和倾斜角特征。这确保了对各种平板基板的精确、均匀的涂层覆盖，包括用于光伏电池和存储器组件的半导体晶片。K575X由洁净室环境电源供电,并带有额外的屏蔽装置,以实现最大的安全性。此外，该模型设计符合全球安全标准，可与APC/MPC等过程控制系统集成。总体而言，EMITECH/EMCORE K575X溅射设备是一种易于使用、可靠和高效的溅射沉积工具。它非常适合半导体工业的高通量涂层和屏障/粘合层应用。它以高吞吐量速度提供精确且经济高效的沉积,同时确保清洁环境中的最大安全性。