二手 EVATEC Radiance #9130079 待售
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已售出
ID: 9130079
优质的: 2010
Sputtering deposition system
Load lock and handling system
Transfer module
Single target
Temperature: 10-50 degree C
Relative humidity: 30-80%
Shared fore line pump: EDWARDS GX100L
LL TMC Pump: PFEIFFER TMH261
TC TMC Pump: PFEIFFER TMH521
(2) Batch process modules (BPM)
Process chamber
Turn table
Wafer chucks
Shared Fore line pump: EDWARDS GX100L
Turbo pump: PFEIFFER Highpace 2301
CTI Inline water pump
Chamber conditioning unit
Baratron process gas measurement gauge
Base pressure: <9E-8 mbar
(2) Process sources SSC 300
Planar magnetron
SSC300
(1) DC Power supply 5kW
(3) Mass flow controllers
Rack cabinet
Control system
Chamber shield for each process module
80-100 A, 50 Hz, 1200 VAC
2010 vintage.
EVATEC Radiance是EVATEC, Inc.提供的溅射设备。它旨在为薄膜的生产提供高通量溅射。辐射系统采用传统的溅射方法，利用磁控管溅射与二极管和三极管溅射构型。它为平面和圆柱沉积提供了广泛的旋转和固定目标。EVATEC辐射装置具有沉积各种材料的能力，包括金属、合金、氧化物、氮化物和非晶态材料。生产的温度范围是从室温到高达400°C。辐射机能够沉积所有材料形式，如薄膜、多层和蒸气分散层。它还可用于创建细微的特征和有限的线宽和空间宽度的纳米结构。该工具适用于高长宽比沉积，能够通过多种方式定位沉积目标。EVATEC Radiance资产还提供先进的传感器技术，可以精确控制沉积室内的气流。这确保了气体溷合物在室内的均匀分布。先进的传感技术还提供温度感测能力，允许精确的温度控制，以便制造更均匀的薄膜。先进的传感器技术还可以实现更快的沉积和更高的吞吐量。Radiance模型还提供远程控制功能,使用户能够远程控制和监视设备。这包括监测沉积速率、沉积时间和目标的运动控制。EVATEC Radiance系统还配备了人机接口（HMI），用于设置操作参数、目标选择、配方等参数。总体而言,Radiance溅射装置具有多种特性和功能,非常适合薄膜生产。它专为生产和研究应用而设计，为用户提供精确的控制和出色的性能。
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