二手 FHR Line 1100 V7 #9257514 待售
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已售出
ID: 9257514
Inline sputtering system
Deposition of dielectric coatings: 7° front side
Modules:
Module 1: Loading station
Module 2: Input load lock
Module 3: Buffer chamber 1
Module 4: Buffer chamber 2
Module 5: Sputtering pseudo reactive
Module 6: Gas separation buffer chamber
Module 7: Sputtering reactive
Module 8: Output load lock
Module 9: Unloading station
Substrate load / Unload module using (2) KUKA robots
Vacuum:
End pressure: ≤2 x 10^-6 mbar after 8 hours
End pressure: ≤1.5 x 10^-6 mbar after 12 hours
Chambers:
Stainless steel vacuum chamber
Powder coated mild steel chamber frame
Pneumatic gate valves
Modules includes:
Turbo molecular pump: DN 250 ISO-K
View port: DN 100
Front service flange
Flap valves VAT
Rotary dry pump: 300 m³/h and 250 m³/h
Roots pump: 1000 m³/h
1900 Is^-1 for N2 and ca 1400 I/s for N2
Gate valves DN 250
Meissner trap with cryo generator
(6) Pirani gauge fore vacuum sensors: 1000 mbar-10^-3 mbar
(8) Penning high vacuum sensors: 10^-3 mbar-10^-8 mbar
(13) Baratrons MKS 627: 10^-1 mbar-10^-4 mbar
Upstream pressure regulation
Atmospheric pressure sensors
Heater
vacuum gauges
Reserve flanges
Rotatable sputtering cathodes:
(8) TiOx cathodes
SCI MC End block
Target length: 43"
Backing tube diameter: 5"
Target substrate distance: 4"
Gas admission system:
MFC for Ar each sputtering source
Gas lines for 5N purity
(4) MF Bipolar power supplies
Control and visualization:
PC Surface
Operating system: Windows 7 Professional
PLC General control
Cooling water:
Power supplies
Cathode
Cathode surrounds cooled by water loops
Power supplies:
Aggregate connection: 3 / N / PE AC 380 V / 50 Hz
24 V.
FHR 1100 V7线是由FHR设计制造的溅射设备。它是一种物理气相沉积（PVD）系统，能够通过称为溅射的过程将金属、介电和/或陶瓷材料薄膜沉积到基板上。Line 1100 V7专为工业应用而设计，并配有多种特性以支援大批量生产。FHR Line 1100 V7由发电机提供动力,在手动或自动模式下,发电机可产生从1KW到8KW的功率输出。其真空单元由两个阶段组成；用于疏散目标腔室的粗加工泵和用于维持高真空条件的涡轮泵。本机在沉积室中可达到10-7托的压力，底压为10-11托。1100 V7线可配置一至四个磁控管，可同时独立运行。每个磁控管都装有一个陶瓷或钢制的目标，用于沉积材料。该工具也可用于反应性溅射以沉积氧化物或氮化物材料，以及在透明导电氧化物（TCO）涂层的情况下的氧化铁锡（ITO）。FHR Line 1100 V7具有超精确的扫描资产,可编程为覆盖不同大小和形状的基板。可用于沉积可定制厚度的材料，最大层厚度为25微米。再者，它配备了多种基板的支撑。它有专用的基板支架来支撑薄至0.1毫米、尺寸可达300毫米见方的基板。该模型还能够独立控制基板温度，以帮助调整光学清晰度或应力等特性。1100 V7号线为了操作员的安全和易用性而设计。它采用模块化设计，便于安装和维修。为了进行维修，FHR 1100 V7号线配备了一个自动清除设备，可以快速撤离剩余材料和污染物的舱室。此外,还可以配置远程监视和控制选项,以实现远距离操作。最后，该系统能够生成详细的分析，允许精确的过程优化和跟踪。
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