二手 FHR RC 200-1 #9285949 待售

製造商
FHR
模型
RC 200-1
ID: 9285949
Sputtering system.
FHR RC 200-1是一种溅射设备,设计用于将薄膜涂层沉积到多种基板上。该系统采用先进的溅射工艺,利用直流电源用惰性气体离子轰击目标材料。目标材料的这种轰击导致目标材料的雾化碎片物理地附着在基板上。RC 200-1是一个完全自动化的单元,具有过程控制,允许精确控制沉积速率、薄膜厚度和均匀性。凭借其独特的设计,FHR RC 200-1还提供了出色的温度控制和整个基板的均匀性。RC 200-1基于模块化机器,允许同时使用多个溅射目标。这使用户能够在单个沉积循环中沉积不同材料的多层薄膜,从而能够制造复杂和高度精确的薄膜结构。该工具配备了高真空室、低压室、冷壁室等多种溅射室。这些腔室为用户提供了从最基本的金属化薄膜到更复杂的多层薄膜等多种材料的沉积能力。FHR RC 200-1还具有一个超微调离子提供,这允许沉积过程的进一步优化。这样可以精确控制材料的蚀刻速率,使用户能够对基板表面的表面进行精确的改变,如点蚀和钝化。该资产包括一个用户友好的触摸屏界面,允许用户快速设置流程参数和跟踪进度。它还包括许多安全功能,如磁互锁和铁丝网屏蔽,以保护用户免受辐射和放射性排放。总体而言,RC 200-1是一种先进的溅射模型,旨在满足薄膜沉积应用的苛刻要求。其先进的工艺控制和模块化设置使用户能够灵活地沉积各种材料,具有出色的均匀性和出色的温度控制。结合用户友好的界面和安全特性,FHR RC 200-1是薄膜沉积应用的理想解决方桉。
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