二手 GILITEK EBG-800-DSC #9395809 待售

GILITEK EBG-800-DSC
製造商
GILITEK
模型
EBG-800-DSC
ID: 9395809
Ion Beam Sputtering (IBS) system BROOKS On-Board 400 Cold pump Osaka FR060D Mechanical pump INFICON High and low vacuum gauge with controller Telide flow meter VAT APC JOEL 6 Probe crystal control INFICON Controller CCR Auxiliary deposition ion source JOEL Electron gun Crucible Coating machine controller.
GILITEK EBG-800-DSC溅射设备是一种高性能涂层技术,设计用于薄膜在各种基板上的沉积。这一强大而灵活的系统利用了材料科学和超高真空技术的最新进展,允许精确控制溅射过程。该装置采用高能离子束在真空环境中侵蚀目标材料的电束枪(EBG-800)。离子束由高压电场产生,并与气体(通常是氙气)结合形成电离的等离子云。然后,这种等离子云被引导到目标物质上,从目标物质表面溅射出原子,使它们沉积在基质上。EBG-800-DSC包括带有高压控制的EBG-800电源,可实现精确的过程控制。该EBG-800具有高达4kW的高速率和高密度溅射功率输出能力。GILITEK EBG-800-DSC还配备了动态源控制器(DSC),它是一种多通道控制器,提供对离子束参数的精确控制。该机器包括温度和压力传感器,可以通过可编程控制器进行远程操作。远程操作可以方便地设置和优化溅射过程。EBG-800-DSC工具可用于各种溅射应用。该资产包括一个自动阀门控制模型,该模型可用于控制氙气的流动,并可用于涂覆各种类型的基材。GILITEK EBG-800-DSC还包括防止目标材料、基板或腔室受到污染的尘埃控制设备。该系统配备了强大的软件包,用于监控、控制和优化溅射过程。该软件允许对溅射过程进行实时测试和分析,可用于调整参数以获得最佳影片质量和性能。EBG-800-DSC溅射装置是将薄膜沉积在各种基板上的一种强大而通用的工具。其强大的硬件和先进的软件相结合,提供了对溅射过程的精确控制,确保了高质量的涂层和薄膜。
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