二手 GILITEK IBS-1030-V2 #9395807 待售

GILITEK IBS-1030-V2是一种用于先进薄膜制造的溅射沉积设备.它是一个完全自动化的系统，具有易于使用的软件和硬件控制。该单元提供先进的精密薄膜沉积功能,包括各种厚度控制选项。适用于半导体等薄膜应用。IBS-1030-V2配备了一个四轴机器人手臂、一个X-Y级和三个溅射源。这种组合使它能够执行高级定向溅射沉积。这台机器能够在25微米厚的任何方向上进行薄膜沉积，ALD厚度控制精度为+/-5%（体积）。该工具有两个或三个目标，每个目标都可以独立控制。GILITEK IBS-1030-V2由GILITEK图形用户界面（GUI）控制。此GUI易于使用和定制,允许在按下按钮时设置高效的薄膜沉积参数。通过使用此接口，操作员可以快速设置沉积配方，监控资产状态，并在增长过程中检查样本图像。该软件还允许基于参数的沉积和调度、自动端点检测（AED）、等离子体控制（PC）模式控制、厚度控制（TC）模式控制、上载图像以进行过程/应用程序监控和校正以及将沉积的胶片属性与平面参考进行比较的能力。IBS-1030-V2具有超纯的沉积气体、坚固的真空泵,并提供过程的灵活性和耐用性。该模型具有PLC输入/输出能力，具有高工艺重复性，多冷却剂设备设计用于可靠的样品温度控制，以及集成的电子束形状薄膜沉积系统。E-Beam通过改进同质性和较高的步长覆盖能力来改进工艺结果。此外，该单元还提供业界领先的安全功能，维护设计低。易于安装的风冷排气过滤机、可调百叶窗和远程关机能力为用户提供了更多的便利。GILITEK IBS-1030-V2是一种先进的溅射工具,旨在为许多应用程序提供精确、高质量的薄膜沉积功能。这一资产快速、可靠、易用，为寻求高精度、高性能薄膜沉积的研究人员提供了绝佳选择。