二手 GILITEK IBS #9222700 待售

GILITEK IBS是由GILITEK Technologies开发的高性能溅射系统。这种革命性的系统采用直流电（DC）反应离子束溅射，是溅射技术的突破。与传统的溅射源如磁控管溅射相比，它具有较高的均匀性、较长的寿命、较低的工作功率和较高的沉积速率。直流反应性离子束溅射也提供了优越的表面粗糙度，这是需要光滑端产品的薄膜沉积应用的重要考虑因素。IBS可以轻松集成到现有自动化系统中,以实现高吞吐量生产。该系统具有高达1.6um/minute的薄膜沉积能力，是周转时间快的大型项目的首选。GILITEK IBS允许精确控制等离子体功率和沉积速率，允许均匀性和质量涂层的最佳条件。而且，它的密封腔室可以加热到400°C，非常适合苛刻的材料。IBS的效率也很高，耗电量为400 W，可用于一系列薄膜溅射应用。它也是灵活制造的理想选择,使其能够快速设置并以最小的停机时间开始运行。几种来源可与GILITEK IBS配合使用，包括铝、铜、钼等多种，允许自订薄膜沉积溶液。此外，还使用全金属密封确保密封室保持防漏，这对于IBS的长期可靠性至关重要。GILITEK IBS是需要高端溅射解决方桉的客户的绝佳选择,它具有通用的性能和卓越的效果。其详尽的功能集使其成为制造用于研究、医学和工程应用的高级元件的宝贵应用工具。IBS是一种完美的工具，能够及时、经济高效地提供高质量、均匀的薄膜涂层。