二手 GILITEK IBSV-1030-V2 #9070264 待售

GILITEK IBSV-1030-V2溅射设备是用于高级材料研究的物理、化学和热过程的多合一来源。IBSV-1030-V2配有两个电源，一个沉淀源、真空、冷冻泵和四个独立的溅射和蒸发源。该系统能够生产厚度高达5,000埃、保形覆盖率高达80%的薄膜。GILITEK IBSV-1030-V2采用标准的高真空室,额定功率为1 x 10 Torr,并配备了强大的扩散泵,能够达到1 x 10-7 Torr的工作底压。一个独立的视图端口、四向操纵器和自动平衡单元允许在腔室内进行精确的控制和定位。通过四个独立的源启用物理溅射沉积。这些源被配置为支持金属和氧化物的平面和保形沉积。该机器能够生产厚度从几埃到几微米的薄膜，这些薄膜在各种底物上具有优越的附着力，包括硅酸盐玻璃和聚合物。通过引入新的蒸气源增强了化学气相沉积（CVD）能力。这种气源能够沉积金属有机化学气相沉积（MOCVD）膜，如GaN或MoS2，以及其他材料如聚合物和碳纳米管。它还支持各种其他材料的升华和化学辅助沉积，具有可调的通量和温度控制。通过具有可调功率和温度的外部加热元件,可以实现热功能。这允许各种过程，如退火和快速热处理。总体而言，IBSV-1030-V2适用于各种研究应用，包括薄膜沉积、CVD沉积和材料热处理。该工具能够生产具有最佳附着力和保形覆盖率的高质量薄膜。先进的硬件,加上先进的软件,在复杂的流程方面提供了卓越的控制和灵活性。GILITEK IBSV-1030-V2能够支持各种各样的应用程序,是研究机构和行业的理想资产。