二手 GILITEK IBSV-1030 #9222698 待售
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ID: 9222698
优质的: 2014
Ion Beam Sputtering (IBS) systems
Substrate size: Diameter, 12"
CTI 400 Cryopump
PPG 16 cm RF ion source
RF Ion source: 12 cm
(4) Targets: 14" x 10"
Ion source distance: Adjustable (±25mm)
In-situ optical monitoring system
OSAKA Dry pump
FERROTEC HSF
(8) Shadow masks
BROOKS Vacuum gauges
VAT Gate valve
Full automatic program controlled
(2) Lamp heaters
2014 vintage.
GILITEK IBSV-1030是一种创新的溅射设备,专为各种应用而设计。它旨在以高效率和高精度工作,使其成为许多行业的理想解决方桉。该系统带有一个传动磁控管溅射目标，能够溅射从氧化物到特殊合金的各种材料。溅射目标面积为10 x 30英寸,是大型溅射应用的绝佳选择。其低功率要求使得它可以用于多种设置，包括高沉积速率和批量生产。IBSV-1030还配有夹紧装置，操作方便、安全。它配有可调电源和可调溅射电流，使溅射过程得到更好的控制和调整。背面冷却允许它在各种环境和基板中使用。GILITEK IBSV-1030是一款多功能机器,提供先进的功能,包括真空级别的0.3Torr至10Torr、可调的薄膜厚度可达33微米,以及可调的溅射速率可达24mm/min。它还具有可调的沉积温度和可调的工作高度.此外,IBSV-1030还具有全自动功能,可用于无人值守操作。GILITEK IBSV-1030旨在减少溅射过程中的颗粒污染，从而更好地控制产品质量。它还具有较低的维护要求,可确保一致的性能和最小的停机时间。IBSV-1030是用于各种溅射应用的可靠、高效的工具。它设计用于易于操作的控制真空条件。这使得它成为各个行业寻找性能和效率都很高的强大溅射资产的理想选择。
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