二手 GILITEK IBSV-1100-MC #9354749 待售

GILITEK IBSV-1100-MC是一种双枪、中容量、直流二极管溅射设备，主要用于薄膜沉积和物理气相沉积过程。该系统包括一个整体射频（射频）发生器、一个气体溷合物控制单元、一个自动抽水机以及安全高效的沉积作业所需的所有硬件。IBSV-1100-MC有一个体积为1.2立方米的大型加工室，可以沉积大面积的基质。该腔室设计有两个2.8-kW（千瓦）直流二极管溅射枪，能够处理高达450毫米（毫米）截断锥体的目标。二极管溅射枪提供了高的溅射速率，产生了出色的薄膜均匀性，使得该工具非常适合大面积的应用，如平板显示器和大面积的金属图桉。GILITEK IBSV-1100-MC包括广泛的安全和便利功能,包括气流安全联锁、可变控制和目标压力控制真空指示器。资产自动将溅射枪和样品之间的间隙保持在恒定距离，以获得一致的结果。IBSV-1100-MC还具有整体基本压力测量模型和闭环压力控制。GILITEK IBSV-1100-MC具有很高的沉积速率和良好的薄膜均匀性和附着力.该设备能够将各种材料（包括金属、硅酸盐和氧化物）沉积到各种基材上，如玻璃和塑料。此外，该系统还可以容纳多种源材料和反应性气体溷合物，使其适用于一系列工艺，如电气和光学薄膜。总之，IBSV-1100-MC是一种先进、可靠的双枪、中容量、直流二极管溅射装置，是各种薄膜沉积和物理气相沉积过程的理想选择。其众多的安全特性和卓越的沉积速率，加上其庞大的加工室和广泛的可自定义的工艺，使其成为任何行业的绝佳选择。