二手 GS / LEYBOLD UNIVEX 350 G #293725240 待售

ID: 293725240
Sputtering deposition system Sputter chamber (RF and DC) Spin coater Sluice (5) GS GLOVEBOX SYSTEMTECHNIK Glovebox Sputter deposition (RF and DC) MARIS DC Generator sputter ADVANCED ENERGY / DRESSLER CESAR 136 E/600W RF Generator sputter LEYBOLD TurboVac MAG Integra Turbopump sputter LEYBOLD ScrollVac SC30 D Pump Sputter  ADVANCED ENERGY / DRESSLER VM1000/1500 Platform Matchbox AE Vario match network HEWLETT PACKARD Laptop sputter P Pro Book Control cabinet: Switch cabinet: 1x 19" Operator panel Windows compatible Pump system Vapor deposition process Orifice Media and connections: Cooling water Compressed air supply Ventilation gas Vacuum chamber: Stainless steel chamber Stainless steel: Plates, Removable, chamber walls, Ceiling doors High-vacuum pump Pressure measuring range: 1000 to 5E-10 mbar Chamber ventilation Pressure safety switch Overpressure safety Turbomolecular pump DN 200 ISO-K Electropneumatic value Levitated turbomolecular pump Pumping speed: 1100 l/s Blocking: Gas, Venting Scroll vacuum pump Nominal pumping capacity: 30 m³/h RF/DC Sputtering: Clamping targets: 4" (Indirectly water-cooled) Bond targets: 4" (Directly water-cooled) Tiltable sputtering head Electro-pneumatic Orifice Chimney Direct gas DN 160 ISO-K Flange (2) Water flow monitor Process gas inlet Gas flow regulator Substrate rotation: Rotary drive Motor Control unit Single substrate: 150mm x 150mm Bayonet fitting Power supply: 400V, 3 Phase, 50Hz, +5%/ -10%, N / PE, 16A.
GS/LEYBOLD UNIVEX 350 G是一种先进的溅射设备,专为先进的薄膜沉积工艺而设计。该系统利用尖端技术和精密工程技术,以紧凑的空间提供无与伦比的性能和多功能性。GS UNIVEX 350 G是微电子、光学和纳米技术领域的研究、开发和生产应用的理想选择,它提供高质量的薄膜,具有非凡的均匀性和可重复性。LEYBOLD UNIVEX 350 G的一个主要特点是模块化设计,它便于定制和可扩展性,以满足特定的流程要求。该单元由多个工序室组成,每个工序室专用于特定的沉积技术,如溅射、蒸发或离子束沉积。此模块化配置使用户能够使用所需的沉积源和过程控制选项组合来配置计算机,从而确保最大程度的灵活性和效率。UNIVEX 350 G的溅射室装有最先进的磁控管溅射源,能够沉积各种材料,包括金属、半导体和电介质。该工具利用先进的等离子体生成技术,创造出高度电离的等离子体,提高溅射效率和薄膜质量。此外,GS/LEYBOLD UNIVEX 350 G具有精确的气流控制资产,能够准确调整工艺参数,确保整个基板表面的薄膜特性一致。为了精确控制沉积过程,GS UNIVEX 350 G装有一个先进的基板支架,能够在各种大小和形状的基板上均匀沉积薄膜。基板支架可以加热或冷却,以控制膜生长动力学,优化膜性能。结合全面的工艺监控模式,LEYBOLD UNIVEX 350 G使用户能够实现对关键工艺参数的精确控制,如沉积率、薄膜厚度、组成等。UNIVEX 350 G还配备了先进的真空设备,可确保工艺室的超高真空条件,这对于高质量薄膜的沉积至关重要。该系统配有高性能涡轮分子泵和低温泵,用于快速疏散腔室,并在沉积过程中保持低基压水平。真空装置是完全自动化的,可以按照预定义的顺序进行编程,用于泵降、排气和压力稳定,提高机器的吞吐量和可靠性。在用户界面和控制方面,GS/LEYBOLD UNIVEX 350 G提供了一个方便用户使用的软件平台,便于编写和操作该工具。直观的图形用户界面提供对所有资产功能和参数的访问,使用户能够设置自定义沉积配方,实时监控流程进度,并分析沉积数据后流程。此外,该型号还配备了高级安全功能和诊断工具,以确保平稳运行并防止由于设备故障或错误而导致的停机。总体而言,GS UNIVEX 350 G是一个用途广泛、可靠的溅射系统,为各种薄膜沉积应用提供了卓越的性能和灵活性。从基础研究到工业生产,这一单元提供了实现对薄膜性能精确控制和满足最苛刻工艺要求所需的工具和能力。LEYBOLD UNIVEX 350 G具有先进的特点和坚固的设计,为薄膜沉积领域的溅射系统设定了新的标准。
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