二手 HITACHI E-1010 #293597935 待售

HITACHI E-1010是一种先进的PVD溅射设备,它结合了卓越的技术和用户友好的操作。HITACHI E1010包括一种大功率微波磁控管溅射枪，即使在困难的基板上也能生产出性能非凡的薄膜。溅射是一种物理气相沉积过程，依赖于高能粒子如离子或原子对目标材料的轰击。这种轰击导致目标材料的原子喷射到基板上形成所需的薄膜。E-1010利用高频、高功率脉冲磁控管溅射实现均匀和可重现的结果。该枪能够使用多达四个独立的动力系统进行单层和同时多层沉积。电源系统的可变范围为0-100%,使用户能够在不同的值范围内更改胶片属性。这种灵活性允许薄膜具有一系列的特性，如低表面粗糙度，优越的附着力和光学反射率。E1010有一个两级压力控制系统，由一个带有内部压力室的外部真空室组成。该装置的设计目的是尽量减少污染和防止沉积过程中的除气问题。该机配备了电子电流测量装置，用于精确的沉积速率控制和成分监测。HITACHI E-1010可处理高达200 mm的样本量,适合广泛的应用。也可用于在玻璃、石英、硅和金属等各种基板上沉积薄膜。HITACHI E1010包括一个远程监测工具，用于监测沉积过程中的压力、温度和其他参数。该资产与Windows兼容,并具有用户友好、直观的图形用户界面。对智能模型进行了编程，以提供快速的命令识别和即时执行。E-1010具有直观的流程配方编辑器,允许用户自定义流程并将其保存以备将来使用。E1010是半导体、薄膜晶体管、数据存储设备、太阳能电池和燃料电池等应用的绝佳选择。HITACHI E-1010可用于沉积金属、金属氧化物和材料组合的薄膜。HITACHI E1010提供可重复、一致的结果,使其成为任何PVD要求的绝佳选择。