二手 HITACHI E-1010 #293604647 待售

HITACHI E-1010是为金属和金属氧化物薄膜沉积而设计的溅射设备。广泛应用于精密微电子学、光电子学、纳米技术和材料科学等研究领域。该系统一般由溅射室和物理气相沉积源两个主要组成部分组成。溅射室为密封室，真空压力小于8x10-5毫巴。它包含用于加工和物料转移的腔室，一个旋转的样板，一个准直器，一个巨大的过滤器和一个固定的基座。样品台最多可容纳五块四英寸的基板，加热至350 °C。准直器用于将溅射的离子对准放置在旋转台上的底物。安装了一个巨大的过滤器来过滤在溅射过程中产生的不稳定气体分子。HITACHI E1010的PVD电源由高压25 A直流电源和一对带有气体阀的N2/O2气体进给系统供电。PVD源可用于同时溅射多达五种不同的目标材料，产生从几个eV到几个keV的广泛的溅射离子能量。它可以溅射铝、铬、铁、金甚至硅基材料的薄膜。E-1010具有一个称为"均匀通量分布"的独特特征，可确保放置在旋转台上的所有底物都能得到均匀溅射的离子。而且，其具有较大腔室表面积和冷却水循环的冷却单元有助于在运行过程中保持稳定的温度。该机还具有泄漏检测、压力调节、遥控、数据记录等多种安全功能。总之，E1010是一种非常先进和可靠的溅射工具，具有优良的特性，非常适合研发活动。凭借其精确的离子溅射技术、均匀的通量分布、温度调节和安全特性，为用户轻松开展研究任务提供了世界级平台。