二手 HITACHI E-1010 #293638499 待售

HITACHI E-1010
製造商
HITACHI
模型
E-1010
ID: 293638499
Ion sputtering systems.
HITACHI E-1010是实验室中用于各种研发应用的最先进的溅射设备。该系统是一个封闭单元,能够处理从基板两侧的真空基板沉积,并计划将基板生长和扩展到更大、更复杂的基板。它配备了最先进的静电屏蔽,用于离子和粒子轨迹的低压和低强度扩散,为敏感的基板和组件提供了优越的保护。溅射枪融合了石墨衬里,有大量的石墨弧丝,提供了溅射材料的均匀平滑过渡。弧丝延伸至整把枪,提供均匀的溅射操作。溅射枪包含一个双点部分,具有四电极机,能够提供高电流、高脉冲速率、功率沉积。该工具专为小型和大型颗粒而设计,可提供极快的涂层性能,并最大程度地减少组件的加热。HITACHI E1010还包括提供平行和横截面蚀刻的双端蚀刻功能。这样可以在溅射过程后对基板或组件进行精确的分析和检查。这项资产还包括一个可以在三维空间内操作的机械臂,允许从任何角度轻松调整基板台和简单进入溅射枪。E-1010是一种全自动溅射模型,具有规划和监控功能、枪支自动化和整体基板管理,以及用户友好的图形用户界面(GUI)。它灵活易用的软件还允许数据输入和记录,具有可调的溅射参数和整体设备管理。它还具有独立的批量管理和配方管理,以及实时压力和温度管理。最值得注意的是,E1010通过实验室级压力监测仪II系统提供高级诊断。该单元提供准确的压力反馈,并显示过程所有阶段的最佳溅射条件。此外,该机可以在真空室或刺刀式溅射枪上操作,使其适应各种类型的基板沉积。总体而言,HITACHI E-1010是一种高级溅射工具,可为各种应用程序提供精确且可重复的结果。凭借其强大的溅射枪、同步蚀刻集成、自动化能力、压力监测功能,是精密基板沉积的综合综合资产。
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