二手 HITACHI E-1010 #9284034 待售

HITACHI E-1010是专为薄膜沉积应用而设计的全自动溅射设备。它配有溅射头室、基板室、电极组件、电源和控制器单元。该系统能够生产出质量好的薄膜，并提供物超所值。适用于薄膜沉积、透明导电氧化物（TCO）沉积和氧化物/金属层的应用。溅射头室的设计提供了一个完全均匀的膜沉积在基板的面积。它装有一个可调节的离子计，用于控制腔室内的压力和近距离监测真空计。在进行沉积时，利用基底腔使基底保持在最佳视图位置。它配有一个快门，用于在基板上提供最均匀的薄膜沉积。电极组件包括两个电极，其中一个是源，另一个是目标。电源用于向电极提供电能以实现溅射过程。控制器单元为溅射头室、基板室和电极组件提供控制信号，确保精确、均匀的薄膜沉积。HITACHI E1010单元为溅射操作提供了多种好处。其最大溅射速率高达0.25对/分钟，最大沉积速率为8nm/min，是高通量的理想溅射机。此外,坚固耐用的设计可随时间推移提供良好的稳定性,并保证在多层沉积、薄膜沉积和透明导电氧化物（TCO）沉积等应用中的卓越性能。灵活的配置选项对于自定义应用程序特别有用。E-1010溅射工具是一种用于溅射操作的强大而可靠的资产,可提供卓越的成本效益,使其成为各种薄膜沉积应用的绝佳选择。它提供了性能、质量和物有所值的良好组合，使其成为薄膜沉积行业任何人的绝佳选择。