二手 HITACHI E-102 #9078351 待售

HITACHI E-102是一种溅射设备，设计用于在各种基板上均匀、精密地沉积薄膜。该系统利用独特的脉冲直流溅射过程，与传统溅射系统相比，在覆盖范围、均匀性和均方根（RMS）粗糙度上实现了一个数量级的提高。E-102是建立在一个坚固的不锈钢腔室，它支撑一个固定的铝制目标和一个可调安装的光学透明腔室壁。该安装座提供精确的角度调整和中心线倾斜，有助于减少沉积不均匀由于电弧放电。脉冲直流溅射过程在目标处产生高能、广域等离子体。与传统的溅射技术相比，该工艺具有均匀的沉积速率、更好的目标照明和更高的目标利用率。它还最大限度地减少了电弧放电引起的沉积非均匀性，因为HITACHI E-102溅射的功率水平更高，能量更均匀，可以使电弧发生的趋势最小化。除了精确的角度调整和中心线倾斜之外,E-102还提供了可重复的预设弧形配置,并且能够以高达20 kW的高功率运行,具体取决于目标材料。这允许更高的沉积速率。HITACHI E-102还包括一个内置冷却单元和电源,使其更易于设置和维护。E-102控制机器包括一个基于Web的界面,用于远程控制和监视来自世界任何地方的进程和状态。这样可以方便地优化溅射工艺参数。HITACHI E-102还配备了一个专利淋浴头目标支撑工具，它允许沉积不同厚度的薄膜而无需重新定位目标。这一资产意味着E-102可以将厚度在几纳米到几微米范围内的薄膜沉积，精度很高。HITACHI E-102也很可靠，由于坚固的不锈钢腔室设计和模型中使用的高质量部件。真空室的密封罩设计用于保护工作表面和光学清除室壁，以帮助防止污染。总体而言，E-102是专门为薄膜沉积设计的先进溅射设备。采用一种创新的脉冲直流溅射工艺，以最高的均匀性和最低的粗糙度沉积高质量和均匀的薄膜。预设的弧形配置、可调节的安装和内置冷却系统使过程的维护和优化更加容易。而淋浴头目标支撑单元允许精确的薄膜沉积，而无需重新定位目标。总之，HITACHI E-102是一种多用途、可靠的溅射机，能够以极高的精度和可重复性沉积高质量薄膜。