二手 HITACHI E-1030 #293638501 待售

HITACHI E-1030是一种溅射沉积设备，设计用于在多个行业的表面上制造高质量的薄膜和涂层。该系统由溅射枪组件、控制器、基板支架和工艺室组成。溅射枪组件由阳极、加工室内部阴极和真空泵组成。阳极由铜构成，内含一根灯丝，经电子轰击加热至1500 °C至2500 °C。阴极是由一种目标材料制成的，由电子从阳极轰击到1000 °C至1 500 °C的温度加热。基板支架附着在工艺室上，负责在溅射沉积过程中将基板固定到位。控制器用于调整压力、电压和电流设置，以便调整沉积速率。工艺室是一种密封的环境，可以调整以产生部分或完全真空，以便于溅射过程。E-1030提供了多种设计功能以获得最佳结果,包括高瞬时沉积速率、由于均匀的磁场而在整个基板上具有出色的均匀性,以及能够处理金属、氧化物和陶瓷等多种材料。该单元还设计为方便用户和易于操作。它有一个简单的控制面板和数字显示屏，用于查看流程参数和根据需要更改设置。此外，它具有高能效和成本效益，是真空沉积工艺的一个有吸引力的选择。除了其设计特点外，HITACHI E-1030还可以执行高功率脉冲磁控管溅射（HIPIMS）和脉冲辉光放电（PGD）等多种溅射技术。HIPIMS提供比其他溅射方法更高的沉积速率，同时在基板上保持高质量、均匀的涂层。PGD是低温应用的理想选择，可用于制造致密导电涂层。这两种溅射方法，以及E-1030的所有其他沉积能力，使其成为在各种工业过程中实现预期结果的有力工具。总体而言，HITACHI E-1030是一种可靠、用户友好的溅射机，适用于各行业的优质薄膜沉积工艺。凭借其先进的设计特点、高效的操作和多用途的溅射技术,此工具是以尽可能最经济高效的方式实现预期结果的理想工具。