二手 HITACHI E-1030 #9117361 待售

HITACHI E-1030 Sputtering Equipment是专门为特别精细的工作而设计的设备。它将多种不同的材料溅射到基板上，包括金、铝、铬、铜、钛等金属，以及硅、二氧化硅等其他材料。系统使用高密度电子束枪将选择的气体电离，然后将离子加速到基板表面。这一技术允许以精确和一致的方式重新沉积目标材料，使操作员能够对过程进行最高程度的控制。该装置设有一个闭环真空室，以确保清洁和无污染的环境，保护有价值的基板。基压1 x 10-5毫巴，最高加工温度350 °C，适合多种细腻工艺。它还配备了车载气体过滤器，使操作员能够快速、方便地过滤各种不同的气体。机器有各种控制,以确保精确的过程.例如，它利用一个可调节的电源，允许精确调节枪的电离功率。这允许沉积极小沉积误差的薄膜或厚膜。它还具有频率为0.01至100 Hz的可编程沉积速率，允许操作员微调基板的沉积速率。E-1030溅射工具是一种可靠的专用设备，非常适合大型生产或其他更复杂的项目。它是薄膜沉积应用的理想解决方桉，提供精确的控制。它坚固的设计和干净的操作使得它成为任何需要可靠和一致结果的过程的绝佳选择。