二手 HITACHI E-1030 #9254425 待售

HITACHI E-1030是一种高性能溅射设备，用于演化金属、半导体或氧化物薄膜。溅射是一种用高能粒子撞击薄膜在基板上沉积薄膜的过程。该系统采用离子束辅助工艺，提高沉积速率，提高薄膜均匀性。它能够为显示器、太阳能电池、MEMS和其他电子元件生成高度精确的薄膜。E-1030包括低阻抗射频（RF）电源、光学监控单元和超高真空（UHV）室。射频电源提供了强大的电流源，使整个过程能够在高于通常可实现的真空中完成。这提高了沉积薄膜的结构和光学质量。光学监测机包括连接到每个基板级的摄像机，允许实时观察沉积过程和精确控制溅射过程。HITACHI E-1030的UHV腔室使用快速冷藏的涡轮分子泵和油和SUS316L电极的组合，以尽量减少污染。这样可以确保在沉积过程中保持极其清洁的气氛。该腔室设计为保持5.0 × 10-9 Torr的底压，并能保持长达24小时的清洁真空。E-1030使用四个均匀载荷来分配溅射离子的冲击力。这确保了从基材到基材的良好材料均匀性。载荷可容纳直径达140毫米的基板，并可容纳厚度达3mm的基板。该工具具有四个独立的目标，允许同时溅射四种不同的材料。HITACHI E-1030能够执行自动配方以精确定义给定胶片的沉积条件。这样可以实现可重复的沉积结果,并确保可靠的生产质量。它还具有一个自我监控资产，它将检测模型错误并向操作员发送警报消息。总体而言，E-1030是一种高性能的溅射设备，可提供卓越的材料均匀性和可重复的沉积结果。它是金属、半导体和氧化物薄膜的理想选择，是创建显示器、太阳能电池、MEMS和其他电子元件的理想选择。