二手 HITACHI E-1030 #9377261 待售

HITACHI E-1030
製造商
HITACHI
模型
E-1030
ID: 9377261
优质的: 1996
Ion sputter 1996 vintage.
HITACHI E-1030是一种高性能的直流溷合溅射沉积设备,它提供了速度、均匀性和过程灵活性的组合。它是将薄膜溅射沉积到半导体、玻璃等材料上的有力工具。E-1030的核心是使用高频交流/直流电源开关和线性直流/直流变换器进行功率调节。这个功能强大的系统能够在五个溅射源之间提供高达1.5kW的溅射功率,每个溅射源的目标功率水平可调,从0.5到200W。该装置还具有一个可选的自动目标功率控制均匀膜沉积.HITACHI E-1030独特的线性DC/DC转换器也允许从0.1到100 nm/min的可调溅射沉积速率。该机器能够生产具有高度保形涂层和特征定义的氧化物、金属和其他材料。E-1030的可调溅射源设计为无论底物尺寸如何,均提供薄膜的均匀沉积。刀具的自动目标电源控制功能可确保沉积发生在适当的目标电源级别,而不管基板尺寸如何。HITACHI E-1030的多区功能允许用户在同一基板内的多个位置或区域上分别溅射。该资产还包括一个用于将薄膜精确定位和沉积到基板上的自动对准模型。E-1030是为提供定性沉积率和加强过程控制而构建的。其自动联锁设备保证了过程的稳定性和过程的可重复性。系统的集成控制面板实时显示沉积参数,实现了快速、均匀的过程控制。此外,高级实时监控单元允许对流程数据进行审查和流程优化。HITACHI E-1030是一种高度通用的机器,非常适合广泛的溅射沉积应用。E-1030具有高电流、高吞吐率、快速电源切换和灵活的过程控制,是溅射沉积的绝佳选择。
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