二手 INNOTEC VS-24C #9097901 待售
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ID: 9097901
RF Magnetron deposition system
Chamber (DxH): 24" x 12"
Target: Aluminum oxide (Al2O3 ), 12"
(5) Silicon wafer size tooling systems, 6"
Dual instrument rack, 19"
(2) CTI Cryo-Torr 8 Cryopumps, 8"
Cable
Conductance valve
CTI 8300 Compressor with 8001 Controller
Magnetron source with RF Match system, 14"
MKS Vacuum gauge with valve and process control system
Temperature and thickness control
Electro pneumatically actuated valve
VCS Vacuum system controller
VSC RS-232 Sense analog and digital signal
Does not include load lock
RF Matching power supply: 2 kW
Working hours: 2000 Hours.
INNOTEC VS-24C是一种用于薄膜涂层应用的高性能溅射设备。它的设计目的是在大面积上提供均匀的薄膜，并且能够将薄膜沉积在包括金属、氧化物、氮化物和合金在内的各种材料上。溅射枪由阳极电极、enerVac真空端口、绝缘涂层和目标支架组成。一个高压脉冲施加到阳极上，从目标材料中激发和产生离子，并将其加速向基板。离子撞击基板,并以薄膜形式沉积目标材料.溅射枪可以在直流（直流电）或射频（射频）模式下操作。在直流模式下，离子不断加速，而在射频模式下，离子以脉冲方式加速。该系统具有具有磁场辅助均匀等离子体分布的专利离子源，提高了薄膜的均匀性。射频源尺寸也可以根据应用的大小和形状进行调整，进一步提高薄膜的均匀性。该单元装有负载锁，支撑一系列直径达8英寸、高度达4英寸的基板。它有一个4英寸的目标支架,可以选择正面或背面加载。基板支架可加热至200 °C。该机采用热控墙设计，以减少基板的加热，减少薄膜上的热应力。它还有一个紧急停止工具，防止因极端电涌造成资产损坏。VS-24C是一个模块化模型，可以很容易地与用于等离子体蚀刻、离子清洗和其他等离子体相关过程的其他模块集成在一起。它非常适合薄膜涂层在汽车、医疗和电子工业中的应用。
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