二手 ISI PS 2 #126408 待售

ISIPS2溅射设备是用于先进薄膜沉积的最先进的工具。利用真空蒸发和溅射的方法，将薄薄的材料层沉积在基板上。溅射过程需要惰性气体（通常为Ar或Xe）与引起强烈电离的电流一起使用。这种电离导致高能粒子轰击和随后的目标材料侵蚀，然后沉积在基板上作为一个薄层。PS 2是一种完全可配置的溅射系统，可用于沉积多种薄膜材料。它专为单目标或双目标配置而设计,后者提供了更大的流程通用性和更好的吞吐量。可以将不同的材料和目标组合成一个单一的目标构型，用于样品特异性沉积。每个目标持有者能够旋转到180°，允许增加沉积角度的范围。单元中可以容纳多种基材，从小块到200毫米晶圆不等。ISI PS 2能够为样品和基板产生保护性屏蔽屏蔽，从而减少污染，增加沉积均匀性。溅射压力可从0.5-6 mTorr调节,并由数字显示器监控.加热器元件可以在机器中使用，以允许更高的沉积速率和改善局部均匀性。PS 2还包括多种辅助技术，包括凹陷冷却剂端口、测量沉积速率的石英晶体，以及预疏散工具。该单元还包括一个用于远程操作的运行和监视资产,并提供了一个控制界面,带有板载计算机控件,用于数据记录和故障排除。总体而言,ISI PS 2是一种高效可靠的溅射模型,能够以各种基材尺寸生产高质量的薄膜层。凭借其可调参数和先进的辅助技术，PS2在溅射技术行业中站稳了脚跟。